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每一件产品都不希望产品表面出现凹凸不平、坑坑洼洼的表面,所以硅胶制品的表面光洁度固然重要,硅胶制品的主模抛光方式主要是降低模具钢的表面粗糙度,要想真正保证硅胶制品的表面光洁度,还需要从模具工艺入手,那么对于硅胶模具的表面光洁度,究竟有什么处理方法呢?
研磨加工的方法有很多,硅胶模具采用不同的加工方法,其中下面的表面加工方法是常见的工艺方法!
电解抛光:
电解抛光是对材料表面的细小凸起的选择性溶解超声波抛光技术,使表面光滑。此法在消除阴极反应的影响方面比化学抛光更为有效。电化学抛光分为两步:
在电解过程中,溶解产物在电解液中扩散,导致材料表面几何粗糙度下降, Ra>1微米。
阳极化效果较好,表面光亮度增加, Ra
机械磨削:
抛光方法是通过切削材料表面的塑性变形,除去抛光后的凸部,得到光滑的表面,通常是用油石、羊毛轮、砂纸等材料进行抛光,以手工为主,特殊零件如回转体表面,可用转盘等辅助工具,对表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛采用专用模具,研抛液中加入磨料,压紧工件,进行表面加工,进行高速旋转运动。利用该工艺可以获得具有0.008微米 Ra的表面粗糙度,是目前最佳的抛光方法。
超声波磨削:
超声波抛光是利用超声波作为动力,以极高的速度把细磨粒推入工件表面,促使被加工的磨削材料进行加工,从而降低其表面粗糙度的一种抛光方法。
流体磨削:
液体抛光是通过高速流动的液体和它们携带的磨粒来抛光工件的表面。常用的加工方法有:磨料喷切、液体喷切、液力研磨等。液压研磨是以液力为动力,使带磨粒的液体介质高速往复流于工件表面。它主要由特殊化合物和高流动性低压力的混合磨料制成,磨料可为碳化硅粉末。
磁力研磨抛光:
磁研磨抛光是利用磁力磨料在磁场中形成磨料刷对工件进行研磨加工。此方法加工效率高,加工质量好,工作条件可控。采用合适的磨料,表面粗糙度可以达到0.1微米。
对硅胶制品制造商来说,模具的抛光光洁度取决于产品的外观质量,因此,同一种抛光工艺是一项重要工序,与其他行业不同,相对来说,模具的抛光光洁度也能提高硅胶制品的加工效率和产品质量等等超声波抛光技术,因此,您所购买的硅胶产品的表面光洁度是否真的光洁,取决于模具的抛光工艺是否做得好!
本文由2218329273于2022-11-10发表在龙哥云资源网,如有疑问,请联系我们。本文链接:https://www.longgeyun.com/knowledge/31957.html
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